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整理番号 3335   (公開日 2006年07月20日) (カテゴリ 素材機械情報・通信エレクトロニクス
フォトリフラクティブ材料の開発と応用
●内容 フォトリフラクティブ材料とは、光強度分布に応じて屈折率が変化するものである。化学反応等を用いずに媒質に屈折率格子を書き込むことができるので、書き換え可能なものとなる。現像が不要の実時間ホログラフィーとしての応用が可能であり、例えば超音波センサーなどに利用できる。この研究室では様々な材料の基礎研究を行っている。半導体材料ではGaNなど、誘電体材料ではLiNbO3、PZN-PTなど、有機材料ではPVK:TNF:DMNPAA:BisCzPro系などである。応用ニーズに対応し、基礎研究加速の用意がある。
●研究者
教授 志村 努
生産技術研究所 基礎系部門
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上記内容は、各研究者へのインタビューをもとに東京大学 産学協創推進本部で骨子をまとめたものです。
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