新着情報 テーマカテゴリ 全カテゴリバイオテクノロジー医学・薬学農林水産・食品環境・エネルギー素材機械情報・通信エレクトロニクス航空・宇宙大気・海洋経済・経営・政策・法律土木・建築社会・文化・教育基礎科学 ごあいさつ ご利用にあたり 検索方法 プライバシーポリシー ご意見・ご質問 実例集 見つからない場合は? DUCRホームページへ トップページ geta_logo
print
印刷時に縮小されてしまう場合などにご利用ください。

整理番号 3699   (公開日 2006年12月28日) (カテゴリ 素材エレクトロニクス
近接場光アシストによるナノインプリント装置
●内容 この研究室では、ナノ構造の近接領域のみに存在する“近接場光”に着目し、従来の全ての光技術の限界である回折限界を打破し、波長以下のナノ領域に展開する“ナノフォトニクス”の研究を進めている。このナノフォトニクスを応用すると “近接場光アシストによるナノインプリント装置”への応用が可能となる。

(技術解説)
光の回折限界に制限されず、物体寸法によってその大きさが決まる近接場光の局在性という特長を利用することで、転写に用いるモールドの寸法よりもさらに微細なパターニングが可能となる。具体的には、転写に用いるモールド構造に対して、近接場光がより強く発生するコーティングを施すことにより、モールド構造のエッジ部にエッジの曲率半径で決まる寸法の近接場光を局在させることが可能となるため、モールドの最小寸法よりもさらに小さいパターニングが可能である。

(優位性)
10nm以下のパターニングが既に実証されているナノインプリントにおいて、さらなる微細化は電子ビーム(EB)描画装置の制限などにより既に限界に達している。これに対して上記手法を用いることでEB描画装置の限界(10nm)よりもさらなる微細化が可能となる。

この研究に興味ある企業などとの共同研究を希望する。
●研究者
特任研究員 大津 元一
大学院工学系研究科 電気系工学専攻
●画像


クリックで拡大

図1:近接場アシストナノインプリントにより作製されたパターン。モールドの周期(300nm)よりも微細なパターンが作製されている
(C) 大津元一
mail
上記内容は、各研究者へのインタビューをもとに東京大学 産学協創推進本部で骨子をまとめたものです。
本件に関する共同研究等のお問い合わせは、左のバナーをクリックしてください。スタッフがお問い合わせをお受けいたします。